扩散炉

扩散炉在半导体制造中发挥着至关重要的作用，它利用辐射和对流加热等精确的加热工艺。必须严格控制不同区域的温度以及温度梯度，以确保杂质均匀扩散到硅晶片中。这些炉子还要仔细管理升温和降温速度，以防止硅片受到热应力。现代扩散炉现在包括先进的控制装置，可实时监控关键工艺参数，从而避免在半导体制造工艺的这一关键阶段出现工艺缺陷。